TiB2高压下的电子结构研究

王小兵 田德诚

王小兵, 田德诚. TiB2高压下的电子结构研究[J]. 高压物理学报, 1993, 7(1): 75-80 . doi: 10.11858/gywlxb.1993.01.012
引用本文: 王小兵, 田德诚. TiB2高压下的电子结构研究[J]. 高压物理学报, 1993, 7(1): 75-80 . doi: 10.11858/gywlxb.1993.01.012
WANG Xiao-Bing, TIAN De-Cheng. Electronic Structure of TiB2 under High Pressures[J]. Chinese Journal of High Pressure Physics, 1993, 7(1): 75-80 . doi: 10.11858/gywlxb.1993.01.012
Citation: WANG Xiao-Bing, TIAN De-Cheng. Electronic Structure of TiB2 under High Pressures[J]. Chinese Journal of High Pressure Physics, 1993, 7(1): 75-80 . doi: 10.11858/gywlxb.1993.01.012

TiB2高压下的电子结构研究

doi: 10.11858/gywlxb.1993.01.012
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    通讯作者:

    王小兵

Electronic Structure of TiB2 under High Pressures

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    Corresponding author: WANG Xiao-Bing
  • 摘要: 用自洽的LMTO-ASA方法计算了TiB2压缩状态下的电子结构。计算中考虑了除自旋-轨道耦合外的所有相对论效应。结果表明,随着压缩程度的增加,Ti-B之间的轨道杂化程度也增加,而在电子能带结构中出现了一个新的赝能隙(Pseudogap)或低谷。该赝能隙与高压下晶体结合更加紧密是联系在一起的。从Ti到B的电荷转移随压缩程度的增加而减小,但在所考虑的压缩范围内,这一效应不显著。

     

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出版历程
  • 收稿日期:  1992-06-24
  • 修回日期:  1992-09-16
  • 发布日期:  1993-03-05

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