金刚石表面杂质的深度分布

张书达 朱瑶华

张书达, 朱瑶华. 金刚石表面杂质的深度分布[J]. 高压物理学报, 1992, 6(3): 175-179 . doi: 10.11858/gywlxb.1992.03.003
引用本文: 张书达, 朱瑶华. 金刚石表面杂质的深度分布[J]. 高压物理学报, 1992, 6(3): 175-179 . doi: 10.11858/gywlxb.1992.03.003
ZHANG Shu-Da, ZHU Yao-Hua. The Surface Impurities Depth-Profiling on the Diamond[J]. Chinese Journal of High Pressure Physics, 1992, 6(3): 175-179 . doi: 10.11858/gywlxb.1992.03.003
Citation: ZHANG Shu-Da, ZHU Yao-Hua. The Surface Impurities Depth-Profiling on the Diamond[J]. Chinese Journal of High Pressure Physics, 1992, 6(3): 175-179 . doi: 10.11858/gywlxb.1992.03.003

金刚石表面杂质的深度分布

doi: 10.11858/gywlxb.1992.03.003
详细信息
    通讯作者:

    张书达

The Surface Impurities Depth-Profiling on the Diamond

More Information
    Corresponding author: ZHANG Shu-Da
  • 摘要: 利用二次离子质谱法(SIMS)测量和分析了金刚石的表面杂质。为获得表面杂质的深度分布,采用了离子剥蚀法,用15 keV的Ar+总共剥蚀了6 400 s,以N、Na、Mg和Si四种杂质作为研究对象。结果表明,各种杂质的浓度最大值均位于最外表面的一薄层内,它相当于剥蚀时间不足6.5 min。对于某一给定的杂质,在不同样品的最外表面上的浓度可以相差很悬殊。但当Ar+剥蚀30 min以后,不同样品中的浓度相差不大,且同一样品中,各种杂质的浓度随剥蚀时间的增大(即随深度的增加)变化不大。

     

  • Орлов Ю Л. Минералогия Алмаза, Глава З. Москва: Издательство Наука, 1973.
    Walker Р L Jr, Thrower P A. Chemistry and Physics of Carbon. New York and Basel: Marcel Dekker INC, 1977.
    Evans T, Qi Z, Maguire J. J Phys C, 1981, 14: L379.
    Заднепровский Б И, Детчуев Ю А, Самойлович М И, и др. Сверхтвердые Материалы, 1982, (3): 15.
    张书达. 硅酸盐学报, 1985, 13: 105.
    丁立业, 陈江华, 魏晓莉. 髙压物理学报, 1990, 4: 96.
    Богатырева Г П, Маринич М А, Базалий Г А, и др. Сверхтвердые Материалы, 1985, (6): 13.
    罗春平, 孟革, 齐上雪, 等. 物理学报, 1991, 40: 667.
    Zhang S, Sun W. 11th AIRAPT International Conference, Part 1, Kiev, 1987: 217.
    Алеидш В Г, Богатырева Г П, Ботатырев А А, и др. Сверхтвердые Материалы, 1987, (2): 12.
  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  7688
  • HTML全文浏览量:  443
  • PDF下载量:  762
出版历程
  • 收稿日期:  1991-11-04
  • 修回日期:  1992-05-18
  • 发布日期:  1992-09-05

目录

    /

    返回文章
    返回