2.0~5.5 GPa压力下合成的SiO2玻璃
丁东业, 谢鸿森, 苏根利, 张月明, 郭捷, 降大勇, 许祖鸣
1998, 12(3): 212-217 . doi: 10.11858/gywlxb.1998.03.008
关键词: 高压, 合成, SiO2玻璃, 折光率,
高温高压下KCl水溶液中离子示踪扩散系数的确定
苏根利, 谢鸿森, 丁东业, 郭捷, 孙樯
2000, 14(4): 273-279 . doi: 10.11858/gywlxb.2000.04.007
关键词: KCl溶液, 极限摩尔电导率, 示踪扩散系数