常温和100~800 MPa压力下石膏的Raman光谱研究

杨玉萍 郑海飞

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常温和100~800 MPa压力下石膏的Raman光谱研究

    通讯作者: 郑海飞

Research on the Raman Spectra of Gypsum at Pressure of 100~800 MPa and Room Temperature

    Corresponding author: ZHENG Hai-Fei
  • 摘要: 利用金刚石压腔装置测量了高压下石膏中SO键的4种振动模式和结晶水中羟基伸缩振动Raman位移,研究结果表明:在常温(25 ℃)和100~800 MPa压力范围内,石膏中SO键的Raman谱峰的位移随压力的增加而向高波数方向移动,结晶水中羟基的两个伸缩谱峰随着压力的增加而向低波数方向移动,同时得到了各个谱峰与压力之间的关系式,其中结晶水中羟基的两个伸缩谱峰的d/dp值有较大不同,是由于结晶水中含有两个强度不同的氢键所致。
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出版历程
  • 收稿日期:  2004-09-21
  • 录用日期:  2005-03-18
  • 刊出日期:  2006-03-05

常温和100~800 MPa压力下石膏的Raman光谱研究

    通讯作者: 郑海飞
  • 1. 北京大学造山带与地壳演化教育部重点实验室,北京 100871;
  • 2. 北京大学地球与空间科学学院,北京 100871

摘要: 利用金刚石压腔装置测量了高压下石膏中SO键的4种振动模式和结晶水中羟基伸缩振动Raman位移,研究结果表明:在常温(25 ℃)和100~800 MPa压力范围内,石膏中SO键的Raman谱峰的位移随压力的增加而向高波数方向移动,结晶水中羟基的两个伸缩谱峰随着压力的增加而向低波数方向移动,同时得到了各个谱峰与压力之间的关系式,其中结晶水中羟基的两个伸缩谱峰的d/dp值有较大不同,是由于结晶水中含有两个强度不同的氢键所致。

English Abstract

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