CVD金刚石薄膜的应力研究

唐壁玉 靳九成 李绍绿 周灵平 陈宗璋

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CVD金刚石薄膜的应力研究

    通讯作者: 唐壁玉; 

Study on Stress in Chemical Vapor Deposite (CVD) Diamond Films

    Corresponding author: TANG Bi-Yu
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出版历程
  • 收稿日期:  1996-07-01
  • 录用日期:  1996-10-02
  • 刊出日期:  1997-03-05

CVD金刚石薄膜的应力研究

    通讯作者: 唐壁玉; 
  • 1. 湖南大学化学化工系,湖南长沙 410082;
  • 2. 湖南大学测试中心,湖南长沙 410082

摘要: 利用X射线衍射研究了化学气相沉积的金刚石薄膜的应力情况。研究表明:热应力在研究范围内为压应力,本征应力是张应力。分析了薄膜厚度、生长温度、碳源浓度等实验参数对薄膜应力的影响。

English Abstract

参考文献 (7)

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