金刚石表面杂质的深度分布

张书达 朱瑶华

引用本文:
Citation:

金刚石表面杂质的深度分布

    通讯作者: 张书达; 

The Surface Impurities Depth-Profiling on the Diamond

    Corresponding author: ZHANG Shu-Da
计量
  • 文章访问数:  7491
  • 阅读全文浏览量:  428
  • PDF下载量:  758
出版历程
  • 收稿日期:  1991-11-04
  • 录用日期:  1992-05-18
  • 刊出日期:  1992-09-05

金刚石表面杂质的深度分布

    通讯作者: 张书达; 
  • 1. 中国科学院国际材料物理中心,辽宁沈阳 110015;
  • 2. 天津广播电视大学,天津 300191

摘要: 利用二次离子质谱法(SIMS)测量和分析了金刚石的表面杂质。为获得表面杂质的深度分布,采用了离子剥蚀法,用15 keV的Ar+总共剥蚀了6 400 s,以N、Na、Mg和Si四种杂质作为研究对象。结果表明,各种杂质的浓度最大值均位于最外表面的一薄层内,它相当于剥蚀时间不足6.5 min。对于某一给定的杂质,在不同样品的最外表面上的浓度可以相差很悬殊。但当Ar+剥蚀30 min以后,不同样品中的浓度相差不大,且同一样品中,各种杂质的浓度随剥蚀时间的增大(即随深度的增加)变化不大。

English Abstract

参考文献 (10)

目录

    /

    返回文章
    返回